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佛山市仁昌科技有限公司 
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| 厂家直销无氰碱铜-镀液稳定可靠 |
RC-CU200无氰碱铜工艺
无氰碱铜工艺特点：
CU200无氰碱铜是我公司引进国外技术*新研制开发的新一代无氰镀铜新工艺，其特点如下：
1.无需qing化钠，很适用于钢铁件、黄铜件、铝合金、锌合金工件作底层电镀，结合力强
2.镀液稳定可靠，寿命长
3.镀液活性强，阴极极化电位大，镀层可加厚，光亮度高，无脆性
废水处理容易，只需加沉淀剂就可以除去有机物，可达标排放。
无氰碱铜溶液组成及操作条件：
原材料及操作条件 挂镀 滚镀
纯水 500毫升/升 560毫升/升
RC-CU200A 400 毫升/升 350毫升/升
RC-CU200B 100毫升/升 90毫升/升
RC-CU200C 1-5毫升/升 1-5毫升/升
pH值 9.5(9.0-10) 9.5(9.0-10)
温度 50(40-60) ℃ 50(40-60) ℃
Dk(A•dm-2) 1(0.5-1.5) 0.6(0.1-0.9)
SA:SK 1.5:1 1.5:1
阳极 轧制高纯铜板 轧制高纯铜板
时间 2－5分钟 20－30分钟
搅拌 阴极移动或空气搅拌(视情况) 阴极移动或空气搅拌(视情况)
过滤 连续过滤 连续过滤
无氰碱铜镀液配制(挂镀，以100L为例)
4.镀槽中加入60L去离子水，加人30L200A溶液(内含铜900g)，搅拌。
5.用50%KOH溶液调pH值，控制溶液pH值9.5。
6.加入200B光亮剂10L，搅拌，加去离子水达工作体积，搅拌均匀。
7.加热至工作温度，试镀。
无氰碱铜镀液的控制与维护
8.200A电镀浓缩液为基础基质提供铜。在电镀过程中，沉积的铜由阳极侵蚀补充。带出的复杂药剂由添加200B补充。一般只在新配槽或镀液功能竭尽时才能添加200A。镀液中铜含量，挂镀一般维持在8~10g/L，滚镀维持在6~8g/L。在生产过程中由于镀液的带出损耗和电极过程的损失，可根据化学分析进行补充，每缺少铜lg/L，可补充200A33mL/L。
9.200B补充液中含复杂药剂，它的添加可作为带出的补充和因电化学作用而消耗的量，过少将会引起结合力下降，轻微过量将不会引起什么不良影响。200B补充液中含有较强酸性物质，所以添加小心，且加入后需要用50%的氢氧化钾调整pH值。200B的消耗量约为100~150mL/kAh，也可根据霍尔槽试验添加。
10.镀液的pH值应控制在9.5~10，不可低于9，以免影响镀层结合力，升高pH值用碳酸钾，降低pH值用200B。
11.阳极材料采用轧制高纯铜板为好，为防止阳极泥及铜粉污染镀液，*用尼龙套，并连续过滤镀液。
12.应严格防止CN一和铁、铜、镍、铬等金属离子污染槽液，导致镀层外观变差，产生雾状 |
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